Jensen Huang: até 2030 a China dominará a litografia avançada
O CEO da Nvidia, Jensen Huang, acredita que até 2030 a China será capaz de criar seus próprios sistemas de litografia EUV, apesar de uma proibição de fornecimento da Holanda ...
Тег: ASML
A Zeiss estima um atraso de 15 anos para a China no desenvolvimento de seu próprio equipamento EUV
По словам директора полупроводникового подразделения немецкой компании Zeiss, китайским разработчикам понадобится около пятнадцати лет, чтобы построить оборудование EUV…
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A ASML planeja aumentar os preços dos equipamentos
A empresa ASML pretende aumentar os preços dos equipamentos de produção de chips, o que pode afetar negativamente os fabricantes de chips, incluindo a TSMC.
