Jensen Huang : d'ici 2030, la Chine maîtrisera la lithographie avancée
Le PDG de Nvidia, Jensen Huang, croit qu'en 2030, la Chine sera capable de créer ses propres systèmes de lithographie EUV, malgré un embargo néerlandais sur les fournitures …
Тег: ASML
Zeiss estime un écart de 15 ans pour la Chine dans le développement de son propre équipement EUV
По словам директора полупроводникового подразделения немецкой компании Zeiss, китайским разработчикам понадобится около пятнадцати лет, чтобы построить оборудование EUV…
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ASML prévoit d'augmenter les prix des équipements
La société ASML prévoit d'augmenter les prix des équipements de production de puces, ce qui pourrait avoir un impact négatif sur les fabricants de puces, y compris TSMC.
