Россия создала электронно-лучевой литограф

Зеленоградский нанотехнологический центр создал установку электронно-лучевой литографии для изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на подложках без использования масок по нормам 150 нм.

Образец установки электронно-лучевой литографии планируется перевезти в другое место для испытаний, которые продлятся около четырех месяцев.

Электронно-лучевая литография позволяет формировать рисунок непосредственно на подложке без использования фотошаблонов, что может быть полезно для мелкосерийного производства специализированных чипов.

Однако для серийного производства такая система не подходит из-за низкой скорости работы.

Развитие российской полупроводниковой отрасли упирается в ряд проблем, включая отсутствие национальной инженерной школы и дефицит фоторезистов для технологий тоньше 90 нм.

Источник: 3DNews