Zeiss оценивает 15‑летний отрыв Китая в создании собственного EUV‑оборудования

• Zeiss считает, что Китаю понадобится ~15 лет для собственного EUV‑оборудования.
• Запреты США и Нидерландов полностью блокируют импорт EUV‑сканеров в Китай.
• ASML остаётся единственным мировым поставщиком EUV‑техники, а Zeiss – её оптикой.

Китай активно инвестирует в замену импортных решений в сфере полупроводникового производства, пытаясь сократить зависимость от западных поставок. На фоне этих усилий западные аналитики регулярно оценивают, насколько отстают китайские проекты от мировых лидеров.

Представитель немецкой группы Zeiss, отвечающей за оптические компоненты, заявил, что реалистичный срок для создания полностью отечественного EUV‑сканера составляет около пятнадцати лет. По его мнению, точную динамику развития китайских технологий сейчас предсказать сложно, но такой промежуток времени выглядит правдоподобным.

Что такое EUV‑литография

EUV (extreme ultraviolet) – это тип литографического оборудования, использующего коротковолновое ультрафиолетовое излучение. Благодаря такой технологии производители способны изготавливать микросхемы с технологией 7 нм и даже более мелкими структурами, что сегодня считается передовым уровнем в отрасли.

Западные ограничения, введённые США и Нидерландами, полностью блокируют поставки EUV‑сканеров в Китай. Поэтому китайским компаниям приходится разрабатывать собственные решения, что требует значительных научных и финансовых ресурсов.

На данный момент единственным в мире производителем EUV‑сканеров остаётся нидерландская фирма ASML, а оптические элементы для её машин поставляются Zeiss. Оборудование предыдущего поколения – DUV (deep ultraviolet) – всё ещё экспортируется в Китай почти без ограничений, за исключением самых продвинутых моделей, для которых требуется лицензия США.

Руководитель Zeiss предупредил, что дальнейшее ужесточение экспортных правил для DUV‑техники может нанести ущерб европейским производителям, но одновременно усилит стимулы у китайских инженеров к развитию собственного оборудования.

По словам представителя Zeiss, китайская индустрия работает над созданием EUV‑техники уже несколько десятилетий, однако отставание остаётся значительным. «Мы по‑прежнему опережаем их», – подчеркнул он, указывая на текущий технологический разрыв.

Важно отметить, что оптические компоненты Zeiss применяются в производстве около 80 % всех микросхем, выпускаемых в мире. Это подчёркивает масштаб преимущества, которое западные компании сохраняют в полупроводниковой цепочке, и указывает на то, насколько тяжело будет догнать их без доступа к ключевым технологиям.

Источник: 3DNews