Zeiss stima un divario di 15 anni per la Cina nello sviluppo della propria attrezzatura EUV
- Zeiss ritiene che alla Cina serviranno ~15 anni per il proprio equipaggiamento EUV.
- I divieti degli Stati Uniti e dei Paesi Bassi bloccano completamente l'importazione di scanner EUV in Cina.
- ASML rimane l'unico fornitore mondiale di attrezzature EUV, mentre Zeiss fornisce l'ottica.
La Cina sta investendo attivamente nella sostituzione delle soluzioni importate nel settore della produzione di semiconduttori, cercando di ridurre la dipendenza dalle forniture occidentali. Sullo sfondo di questi sforzi, gli analisti occidentali valutano regolarmente quanto i progetti cinesi siano indietro rispetto ai leader mondiali.
Un rappresentante del gruppo tedesco Zeiss, responsabile dei componenti ottici, ha dichiarato che il termine realistico per la creazione di uno scanner EUV completamente domestico è di circa quindici anni. Secondo lui, è difficile prevedere con precisione la dinamica dello sviluppo delle tecnologie cinesi al momento, ma un intervallo di tempo del genere sembra plausibile.
Che cos'è la litografia EUV
EUV (ultravioletto estremo) è un tipo di attrezzatura litografica che utilizza radiazioni ultraviolette a lunghezza d'onda corta. Grazie a questa tecnologia, i produttori sono in grado di realizzare circuiti integrati con tecnologia a 7 nm e persino strutture più piccole, che oggi sono considerate il livello più avanzato del settore.
Le restrizioni occidentali imposte dagli Stati Uniti e dai Paesi Bassi bloccano completamente le forniture di scanner EUV in Cina. Pertanto, le aziende cinesi devono sviluppare soluzioni proprie, il che richiede significative risorse scientifiche e finanziarie.
Attualmente, l'unico produttore di scanner EUV al mondo rimane l'azienda olandese ASML, mentre gli elementi ottici per le sue macchine sono forniti da Zeiss. Le attrezzature di generazione precedente – DUV (ultravioletto profondo) – vengono ancora esportate in Cina quasi senza restrizioni, ad eccezione dei modelli più avanzati, per i quali è necessaria una licenza statunitense.
Il responsabile di Zeiss ha avvertito che un ulteriore inasprimento delle norme di esportazione per la tecnologia DUV potrebbe danneggiare i produttori europei, ma allo stesso tempo aumenterebbe gli incentivi per gli ingegneri cinesi a sviluppare attrezzature proprie.
Secondo un rappresentante di Zeiss, l'industria cinese sta lavorando alla creazione di tecnologia EUV da diversi decenni, tuttavia il divario rimane significativo. «Siamo ancora in vantaggio su di loro», ha sottolineato, indicando l'attuale divario tecnologico.
È importante notare che i componenti ottici Zeiss sono utilizzati nella produzione di circa l'80% di tutti i microchip prodotti nel mondo. Questo sottolinea l'ampiezza del vantaggio che le aziende occidentali mantengono nella catena di approvvigionamento dei semiconduttori e indica quanto sarà difficile raggiungerle senza accesso a tecnologie chiave.
Fonte: 3DNews
