Jensen Huang : d'ici 2030, la Chine maîtrisera la lithographie avancée
Le PDG de Nvidia, Jensen Huang, croit qu'en 2030, la Chine sera capable de créer ses propres systèmes de lithographie EUV, malgré un embargo néerlandais sur les fournitures …
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Три крупнейших производителя чипов договорились о совместном переходе на оборудование High-NA EUV и увеличенные фотомаски размером 300 мм. Это позволит повысить произво…
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