Zeiss estime un écart de 15 ans pour la Chine dans le développement de son propre équipement EUV
- Zeiss estime que la Chine aura besoin d'environ 15 ans pour son propre équipement EUV.
- Les interdictions des États-Unis et des Pays-Bas bloquent complètement l'importation de scanners EUV en Chine.
- ASML reste le seul fournisseur mondial de technologie EUV, tandis que Zeiss en est l'optique.
La Chine investit activement dans le remplacement des solutions importées dans le domaine de la production de semi-conducteurs, cherchant à réduire sa dépendance vis-à-vis des approvisionnements occidentaux. Dans ce contexte, les analystes occidentaux évaluent régulièrement à quel point les projets chinois sont en retard par rapport aux leaders mondiaux.
Un représentant du groupe allemand Zeiss, responsable des composants optiques, a déclaré que le délai réaliste pour créer un scanner EUV entièrement national est d'environ quinze ans. Selon lui, il est actuellement difficile de prédire la dynamique exacte du développement des technologies chinoises, mais un tel laps de temps semble plausible.
Qu'est-ce que la lithographie EUV
EUV (ultraviolet extrême) est un type d'équipement lithographique utilisant un rayonnement ultraviolet à ondes courtes. Grâce à cette technologie, les fabricants sont capables de produire des puces avec une technologie de 7 nm et même des structures plus petites, ce qui est aujourd'hui considéré comme le niveau avancé dans l'industrie.
Les restrictions occidentales imposées par les États-Unis et les Pays-Bas bloquent complètement les livraisons de scanners EUV en Chine. Par conséquent, les entreprises chinoises doivent développer leurs propres solutions, ce qui nécessite d'importantes ressources scientifiques et financières.
À l'heure actuelle, le seul fabricant de scanners EUV au monde reste la société néerlandaise ASML, et les éléments optiques pour ses machines sont fournis par Zeiss. L'équipement de la génération précédente – DUV (ultraviolet profond) – est encore exporté en Chine presque sans restrictions, à l'exception des modèles les plus avancés, pour lesquels une licence américaine est requise.
Le responsable de Zeiss a averti qu'un durcissement supplémentaire des règles d'exportation pour la technologie DUV pourrait nuire aux fabricants européens, mais renforcerait en même temps les incitations pour les ingénieurs chinois à développer leur propre équipement.
Selon un représentant de Zeiss, l'industrie chinoise travaille à la création de technologies EUV depuis plusieurs décennies, mais le retard reste significatif. « Nous les devançons toujours », a-t-il souligné, en faisant référence à l'écart technologique actuel.
Il est important de noter que les composants optiques Zeiss sont utilisés dans la production d'environ 80 % de toutes les puces fabriquées dans le monde. Cela souligne l'ampleur de l'avantage que les entreprises occidentales conservent dans la chaîne d'approvisionnement des semi-conducteurs et indique à quel point il sera difficile de les rattraper sans accès aux technologies clés.
Source : 3DNews
