Китайцы ускорили производство фотонных чипов
- Ускорение производства фотонных чипов
- Новый метод ионно-лучевой литографии
- Массовое промышленное производство
Ионно-лучевая литография является перспективным методом в производстве фотонных чипов, но ранее она имела ограничение в скорости производственных операций.
Китайские ученые из Института физики Китайской академии наук и Гонконгского университета разработали новый метод, который сокращает время обработки кремниевых пластин с нескольких часов до десятков секунд.
Этот метод получил название «оригами, индуцированное ионным пучком» и позволяет одновременно обрабатывать всю пластину целиком за один проход.
Ученые продемонстрировали эффективность метода, создав трёхмерные элементы фотонных чипов с высокой однородностью.
Новый метод открывает путь к массовому промышленному производству фотонных чипов, которые могут быть использованы в различных областях, включая оптические сети связи и интегрированные фотонные схемы.
Источник: 3DNews
