蔡司估计中国在开发自己的EUV设备方面有15年的差距

• 蔡司认为，中国需要大约15年才能拥有自己的EUV设备。
• 美国和荷兰的禁令完全阻止了EUV扫描仪进口到中国。
• ASML仍然是全球唯一的EUV技术供应商，而Zeiss则是其光学设备供应商。

中国正在积极投资于替代进口半导体生产解决方案，试图减少对西方供应的依赖。在这些努力的背景下，西方分析师定期评估中国项目与全球领导者之间的差距。

负责光学组件的德国Zeiss集团代表表示，完全自主的EUV扫描仪的现实开发周期大约为十五年。他认为，目前很难预测中国技术发展的确切动态，但这样的时间跨度看起来是可信的。

什么是EUV光刻

EUV（极紫外线）是一种使用短波长紫外线辐射的光刻设备类型。通过这种技术，制造商能够生产出7纳米及更小结构的微芯片，这在行业内被认为是先进水平。

美国和荷兰实施的西方限制完全阻止了EUV扫描仪向中国的供应。因此，中国公司不得不开发自己的解决方案，这需要大量的科学和财务资源。

目前，全球唯一的EUV扫描仪制造商仍然是荷兰公司ASML，其机器的光学元件由蔡司提供。上一代设备——DUV（深紫外线）——仍然几乎没有限制地出口到中国，除了最先进的型号，这些型号需要美国的许可证。

蔡司的负责人警告说，进一步收紧DUV设备的出口规则可能会对欧洲制造商造成损害，但同时会增强中国工程师开发自己设备的动力。

据蔡司的代表说，中国工业已经在开发EUV技术方面工作了几十年，但差距仍然很大。“我们仍然领先于他们，”他强调，指出当前的技术差距。

值得注意的是，蔡司的光学组件在全球约80%的芯片生产中被应用。这突显了西方公司在半导体链条中保持的优势规模，并指出在没有关键技术的访问权限的情况下，追赶他们将是多么困难。

来源：3DNews