Zeiss szacuje 15-letnią lukę dla Chin w opracowywaniu własnego sprzętu EUV

- Zeiss uważa, że Chiny potrzebują ~15 lat na własny sprzęt EUV.
- Zakazy USA i Holandii całkowicie blokują import skanerów EUV do Chin.
- ASML pozostaje jedynym światowym dostawcą technologii EUV, a Zeiss – jej optyką.
Chiny aktywnie inwestują w zastąpienie importowych rozwiązań w dziedzinie produkcji półprzewodników, starając się zmniejszyć zależność od zachodnich dostaw. W obliczu tych wysiłków zachodni analitycy regularnie oceniają, jak bardzo chińskie projekty odstają od światowych liderów.
Przedstawiciel niemieckiej grupy Zeiss, odpowiedzialnej za komponenty optyczne, stwierdził, że realistyczny czas na stworzenie w pełni krajowego skanera EUV wynosi około piętnastu lat. Jego zdaniem, dokładną dynamikę rozwoju chińskich technologii obecnie trudno przewidzieć, ale taki okres czasu wydaje się wiarygodny.
Co to jest EUV‑litografia
EUV (extreme ultraviolet) to typ sprzętu litograficznego, który wykorzystuje krótkofalowe promieniowanie ultrafioletowe. Dzięki tej technologii producenci są w stanie wytwarzać układy scalone z technologią 7 nm i nawet mniejszymi strukturami, co obecnie uważane jest za zaawansowany poziom w branży.
Zachodnie ograniczenia wprowadzone przez USA i Holandię całkowicie blokują dostawy skanerów EUV do Chin. Dlatego chińskie firmy muszą opracowywać własne rozwiązania, co wymaga znacznych zasobów naukowych i finansowych.
Na chwilę obecną jedynym producentem skanerów EUV na świecie pozostaje holenderska firma ASML, a elementy optyczne do jej maszyn dostarcza Zeiss. Sprzęt poprzedniej generacji – DUV (głębokie ultrafiolet) – wciąż jest eksportowany do Chin prawie bez ograniczeń, z wyjątkiem najbardziej zaawansowanych modeli, do których potrzebna jest licencja USA.
Szef Zeiss ostrzegł, że dalsze zaostrzenie zasad eksportowych dla sprzętu DUV może zaszkodzić europejskim producentom, ale jednocześnie wzmocni motywacje chińskich inżynierów do rozwoju własnego sprzętu.
Według przedstawiciela Zeiss, chińska przemysł pracuje nad stworzeniem technologii EUV od kilku dziesięcioleci, jednak różnica wciąż pozostaje znacząca. „Wciąż ich wyprzedzamy” – podkreślił, wskazując na obecny technologiczny dystans.
Warto zauważyć, że komponenty optyczne Zeiss są stosowane w produkcji około 80 % wszystkich układów scalonych wytwarzanych na świecie. Podkreśla to skalę przewagi, jaką zachowują zachodnie firmy w łańcuchu półprzewodników, i wskazuje na to, jak trudno będzie je dogonić bez dostępu do kluczowych technologii.
Źródło: 3DNews



