Zeiss estima un retraso de 15 años para China en el desarrollo de su propio equipo EUV
- Zeiss considera que a China le llevará ~15 años desarrollar su propio equipo EUV.
- Las prohibiciones de EE. UU. y los Países Bajos bloquean completamente la importación de escáneres EUV a China.
- ASML sigue siendo el único proveedor mundial de tecnología EUV, y Zeiss es su óptica.
China está invirtiendo activamente en la sustitución de soluciones importadas en el ámbito de la producción de semiconductores, tratando de reducir la dependencia de los suministros occidentales. En medio de estos esfuerzos, los analistas occidentales evalúan regularmente cuánto están rezagados los proyectos chinos en comparación con los líderes mundiales.
Un representante del grupo alemán Zeiss, encargado de los componentes ópticos, declaró que el plazo realista para crear un escáner EUV completamente nacional es de aproximadamente quince años. En su opinión, es difícil predecir la dinámica exacta del desarrollo de las tecnologías chinas en este momento, pero ese intervalo de tiempo parece plausible.
Qué es la litografía EUV
EUV (ultravioleta extremo) es un tipo de equipo litográfico que utiliza radiación ultravioleta de onda corta. Gracias a esta tecnología, los fabricantes pueden producir circuitos integrados con tecnología de 7 nm e incluso estructuras más pequeñas, lo que hoy se considera el nivel más avanzado en la industria.
Las restricciones occidentales impuestas por EE. UU. y los Países Bajos bloquean completamente el suministro de escáneres EUV a China. Por lo tanto, las empresas chinas se ven obligadas a desarrollar sus propias soluciones, lo que requiere recursos científicos y financieros significativos.
En la actualidad, el único fabricante de escáneres EUV en el mundo sigue siendo la empresa neerlandesa ASML, y los elementos ópticos para sus máquinas son suministrados por Zeiss. El equipo de la generación anterior – DUV (ultravioleta profundo) – todavía se exporta a China casi sin restricciones, excepto por los modelos más avanzados, para los cuales se requiere una licencia de EE. UU.
El director de Zeiss advirtió que un endurecimiento adicional de las normas de exportación para la tecnología DUV podría perjudicar a los fabricantes europeos, pero al mismo tiempo aumentaría los incentivos para que los ingenieros chinos desarrollen su propio equipo.
Según un representante de Zeiss, la industria china ha estado trabajando en la creación de tecnología EUV durante varias décadas, sin embargo, la brecha sigue siendo significativa. 'Todavía les llevamos la delantera', enfatizó, señalando la actual brecha tecnológica.
Es importante señalar que los componentes ópticos de Zeiss se utilizan en la producción de alrededor del 80 % de todos los microchips fabricados en el mundo. Esto subraya la magnitud de la ventaja que las empresas occidentales mantienen en la cadena de semiconductores y señala cuán difícil será alcanzarlas sin acceso a tecnologías clave.
Fuente: 3DNews
